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磁控濺射是一種廣泛應用于薄膜材料沉積的物理氣相沉積（PVD）技術，廣泛應用于半導體、光學、太陽能、電池、顯示器、硬盤、光學鏡頭等領域的生產和研發。磁控濺射系統通過將靶材中的原子或分子撞擊到基材表面，形成薄膜材料，具有高質量的薄膜沉積效果和較高的沉積速率。磁控濺射技術的核心原理是通過電磁場產生的約束作用，使離子化氣體（通常為氬氣）在靶材表面形成高能電子束，從而使靶材表面原子激發出來，并沉積到基材上，形成均勻的薄膜。磁控濺射系統的主要組成部分：1.真空腔體：真空腔體是核心部分，通...

全自動ICP刻蝕系統以其高效、精確、自動化的特點，在半導體、光電子、MEMS等領域得到廣泛應用。隨著技術的不斷進步，其在精度、效率和智能化方面將進一步提升，推動更多高精密制造領域的技術發展。全自動ICP刻蝕系統的基本工作流程：1.預處理與參數設定操作人員通過觸摸屏或計算機界面輸入刻蝕工藝所需的參數，如氣體流量、壓力、功率、刻蝕時間等。這些參數會直接影響到等離子體的產生與穩定性，從而影響刻蝕效果。2.氣體流量與等離子體的調控系統會根據設定的參數自動調節氣體流量與壓力，確保等離子...

晶圓清洗機是半導體制造過程中至關重要的設備之一，主要用于清洗晶圓表面上的雜質、污垢和化學殘留物，以確保晶圓表面的潔凈度和質量。這些雜質和污染物的存在可能會影響后續的光刻、蝕刻、沉積等工藝，進而影響芯片的性能和可靠性。因此，晶圓清洗是半導體生產中一個關鍵的工藝步驟。晶圓清洗機的工作原理：1.超聲波清洗：利用超聲波的高頻振動將晶圓表面上的污垢、污染物分散開來。超聲波的作用可以有效去除微小的顆粒和化學殘留物。2.噴淋清洗：使用高壓的噴淋系統將化學溶液噴射到晶圓表面，幫助去除污染物。...

全自動磁控濺射系統是一種高效的薄膜沉積設備，廣泛應用于材料科學、半導體、光電顯示、太陽能電池和傳感器等研究與產業領域。該系統利用磁控濺射技術，在真空環境中將靶材中的原子或分子高效地沉積到基底上，從而形成所需的薄膜。全自動磁控濺射系統的工作原理：1.真空環境：先需要在真空室內創建一個高真空環境，以減少氣體分子對濺射過程的干擾并提高沉積質量。2.靶材準備：將靶材（通常由金屬、合金或陶瓷材料組成）固定在系統的靶位上，靶材是薄膜的主要成分。3.等離子體生成：系統通過在真空室內引入惰性...

全自動磁控濺射系統是一種用于薄膜沉積技術的設備，廣泛應用于半導體、光電、光學薄膜、傳感器等領域。該系統利用高能離子束轟擊靶材，通過物質濺射的方式，在基材表面沉積薄膜。全自動磁控濺射系統的基本原理：1.氣體離子化：在高真空環境中，惰性氣體（如氬氣）被導入腔體，施加高頻電壓形成等離子體，使氣體部分離子化。2.離子加速：離子被電場加速并朝向靶材運動。3.靶材濺射：高速運動的離子與靶材發生碰撞，使靶材表面原子獲得足夠的能量，從而逸出表面，形成濺射物質。4.薄膜沉積：濺射出的原子在腔體...

磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）技術，廣泛應用于薄膜材料的制備。其基本原理是利用高能粒子轟擊靶材，導致靶材原子或分子逸出，并在基材表面沉積形成薄膜。該過程通常在真空環境中進行，以確保沉積過程中的純凈和無污染。全自動磁控濺射系統的部分組成：1.真空腔體：作為整個濺射過程的核心部分，真空腔體配備有高效的抽真空系統，確保低壓環境。2.靶材和基材架：靶材通常采用高純度的金屬或合金，根據不同的沉積需求選擇；基材架則負責固定待涂覆的基材，確保在濺射過程中的穩定性。3.磁場系統：...

飛行時間二次離子質譜法（TOF-SIMS）是一種高度靈敏的表面分析技術，可揭示樣品頂部幾個原子層的質譜數據。Kore很榮幸成為InnoviaFilms的TOF-SIMS供應商，InnoviaFilms是一家材料科學公司，為包括標簽、包裝以及錢幣在內的各種產品生產基礎膜。InnoviaFilms與Kore接洽，要求研究其高度差異化的雙向拉伸聚丙烯（BOPP）薄膜的不同表面處理。Kore設計的SurfaceSeer儀器成為Kore后續TOF-SIMS儀器的基礎，并為Innovia...

便攜式飛行時間質譜儀（PortableTime-of-FlightMassSpectrometer,TOF-MS）是一種高靈敏度、高分辨率的分析工具，廣泛應用于環境監測、食品安全、藥物檢測、軍事安全等領域。與傳統的實驗室質譜儀相比，具有體積小、重量輕、操作簡便等特點，使其能夠在現場快速進行分析和檢測。便攜式飛行時間質譜儀的工作原理：1.樣品離子化：樣品先通過離子化源被轉化為離子。常見的離子化方法包括電噴霧離子化（ESI）、基質輔助激光解吸/電離（MALDI）和化學離子化（CI...